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9月からの展覧会に向けて、7月より滞在制作が始まります！

【「Artists in FAS(アーティスト イン エファース)」】
アーティストが特定の場所に一定期間滞在し、そこで制作活動を行うという「アーティスト・イン・レジデンス・プログラム」です。
同プログラムは2016年にスタートし、今年で4回目を迎えます。
80件の応募の中から選出された4名が、これまでに追求してきた表現や培ってきた経験を、滞在制作を通して、絵画、立体、インスタレーション、映像等の多様なメディアで形にします。
滞在制作期間中は、オープンスタジオ(公開制作)となり、入選者は来場者とコミュニケーションを図りながら制作に取り組みます。

【入選アーティスト】
◆国分 想(こくぶ はるか)　1978年生・シドニー、オーストラリア在住
◆越中 正人(こしなか まさひと)　1979年生・神奈川県在住
◆下大沢 駿(しもおおさわ しゅん)　1993年生・神奈川県在住
◆田中　唯子(たなか あいこ)　1991年生・東京都在住